周三下午，警方在位于纽约州Niskayuna的一处民宅中，逮捕了一名涉嫌窃取商业机密文件的56岁GE华裔工程师。

       据报道，涉案被捕的为Zheng姓男子，毕业于中国西北工业大学，2007年前往MIT Sloan School（麻省理工大学斯隆商学院）读书，2008年入职通用公司。LinkedIn资料显示，Zheng目前已获得29项技术专利。

       Zheng目前拥有美国公民身份，但仍然保留中国公民国籍。他被指控通过窃取通用公司的涡轮机技术（turbine technology）文件，运用到其在中国创办的公司上。

       检方称，Zheng通过一种称为隐写术（steganography）系统，将数据隐藏在一张日落的照片中，然后将该图片和被盗数字文件通过电子邮箱，以“值得保存的美景”（Nice view to keep）作为标题发送到自己的个人邮箱中。

       Zheng在被捕后，向调查人员承认自己窃取商业机密资料的行为，并表示他此前还曾通过同样的方法，盗取5到10次公司的资料。他还承认，自己在中国拥有的公司，与GE工作技术相同，但目前尚未盈利。

       Zheng涉嫌窃取商业机密的行为最早可以追溯到2014年。当时，Zheng通过个人移动硬盘，在GE计算机网络系统下载了超过1.9万个文件。GE工作人员经过调查，无法确认这些文件内容是否涉及商业窃取，而Zheng随后也称已删除这些文件。根据法院文件，GE无法确认这些文件是否已被泄露或被删除。

       2015年，Zheng在中国成立了一家航空零件供应公司。Zheng曾向GE表示，他和他的兄弟共同创办这家公司。虽然GE对该公司调查后，认为这家公司与GE存在利益冲突，但GE依然保留了Zheng在公司的职务。

       2017年，GE开始对Zheng进行严密监控。GE在Zheng的工作电脑上，发现了约400个加密文件。随后，公司于7月5日发现了窃取商业机密的照片。

       FBI还在Zheng的家中找到了一本手册，怀疑这本手册与其泄密的资料有关。此外，从其护照信息显示，他在两年内曾回国5次，并携带各种电子设备。调查人员正在对这些电子产品进一步调查取证。

       目前，Zheng被控窃取商业机密等罪名，如果罪名成立，他最高将面临10年监禁和$25万罚款。

       （内容来源于互联网）